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HM-C-008
高溫納米氧化鋁旋涂漿料
納米分散技術稀釋：
Al2O3(50nm)漿料/溶劑/添加劑（重量比）
10克/其它
厚度：~500納米
轉速：2000rpm, 30秒
燒結：500度30分鐘
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